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[培訓]【官方培訓】2019年 Zemax成像與激光培訓_10月北京站 [復制鏈接]

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離線zemax官方

助理工程師

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Zemax成像設計培訓課程 & 激光、光纖耦合高級培訓課程

Zemax中國將于 2019 年 10 月在北京舉辦官方培訓課程，現已正式啟動報名，歡迎廣大新老客戶報名參加！

主辦：Zemax China
時間：成像設計：2019年10月21~23日     |     激光、光纖耦合：2019年10月24~25日
地點：北京

課程安排：

成像設計
本課程為3 天的 OpticStudio 成像設計課程，課程主要覆蓋序列成像設計、優化技巧、像質評價、熱分析、鬼像分析、公差分析、像差概念及Zemax 圖譜、玻璃材料定義、坐標變換等，及相應的實例鏡頭、棱鏡建模等。

上課時間	第1天	第2天	第3天
9:00-10:30	OpticStudio 軟件功能介紹； VIHuo, 材料庫、鏡頭庫介紹； ?g9:xgkF ^ 如何定義新材料； @y'0_Y0-B 如何使用鏡頭庫；	MTF； DL*vF>v 雙高斯鏡頭設計及優化； !-t,r%CG 像質評價與圖像模擬；	分析工具應用； AP1&TQ,& 尋找最佳非球面； V3>tW,z 曲率套樣板； Bd]k]v+ 鏡頭匹配工具；
10:30-10:45	茶歇	茶歇	茶歇
10:45-12:00	像差理論介紹； g<N;31:c\ Zemax 像差分析圖譜；	坐標變換； #;yxn.</ 坐標斷點面的使用技巧； \|h?2~D!+d 序列模式棱鏡建模； ?I[*{}@n" 掃描反射鏡設計實例；	Zemax公差分析功能； k8?G%/TD 加工誤差、裝配誤差； {Q}F.0Q 靈敏度分析； f"*k>=ETI 反靈敏度分析； -.Blj<2ah 蒙特卡羅分析；
12:00-13:30	午餐	午餐	午餐
13:30-15:00	優化； gYCr,-_i 局部優化； )n]"~I^ 全局優化； 35Yf,@VO 錘形優化； wFX9F3m 優化函數架構技巧； NS65F7<& 單透鏡優化實例； aeISb83Y